具有阶梯式孔槽的半导体芯片及其制备方法
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具有阶梯式孔槽的半导体芯片及其制备方法
申请号:
CN202510859050
申请日期:
2025-06-25
公开号:
CN120936066A
公开日期:
2025-11-11
类型:
发明专利
摘要
本公开公开了一种具有阶梯式孔槽的半导体芯片及其制备方法,属于半导体技术领域。该半导体芯片包括半导体层和膜叠层;膜叠层位于半导体层的一面,膜叠层背向半导体层的一面具有孔槽,孔槽的槽壁包括依次相连的第一侧壁、台阶壁和第二侧壁,第二侧壁相较于第一侧壁远离半导体层,第二侧壁的内径大于第一侧壁的内径,第一侧壁和第二侧壁均与台阶壁之间具有夹角,台阶壁平行于半导体层。本公开实施例能够提升金属填充覆盖率。
技术关键词
光刻胶层
半导体层
半导体芯片
刻蚀气体
叠层
偏置射频电源
台阶
介质
阶梯式
孔槽
功率
覆盖率
压力