一种等离子体表面参数的闭环控制方法及系统

本发明涉及等离子体闭环控制技术领域，且公开了一种等离子体表面参数的闭环控制方法及系统，包括：执行芯片间隔分类策略，根据电路板上芯片的间隔将芯片分为两类；执行清洗时长估算策略，估算在不同清洗距离下等离子清洗笔清洗待清洗区域的清洗时长；执行单次清洗预测策略，使用等离子清洗笔单次清洗待清洗区域，预测清洗电路板待清洗区域的单次时长；执行双次清洗预测策略，使用等离子清洗笔两次清洗局部清洗区域，预测清洗电路板待清洗区域的双次时长；执行孤立芯片清洗优化策略，基于设定的限制时长对孤立芯片进行单次清洗和分次清洗，并选择清洗时长最短的方式清洗孤立芯片，提升电路板的清洗精度，同时降低清洁能耗。