视觉大模型辅助的统一多任务计算光刻建模与缺陷检测方法

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视觉大模型辅助的统一多任务计算光刻建模与缺陷检测方法
申请号:CN202510912193
申请日期:2025-07-03
公开号:CN120411101B
公开日期:2025-09-09
类型:发明专利
摘要
本发明公开了视觉大模型辅助的统一多任务计算光刻建模与缺陷检测方法,不仅具备高精度的建模能力与缺陷识别性能,同时显著降低模型部署成本,具备高度自动化、统一建模与工程可扩展性等优势。包括以下步骤:构建图像生成与缺陷检测双任务数据集;基于统一的Transformer架构,构建融合工艺条件的两阶段图像生成模型,实现由layout图像生成mask与contour图像;针对layout、mask与contour三类图像,构建基于DETR的缺陷检测模型,进行DRC、MRC、LRC检测;构建端到端光刻大模型框架,支持输入layout后同时输出mask、contour及DRC/MRC/LRC检测结果。
技术关键词
缺陷检测方法 图像生成模型 多任务 焦距偏移量 卷积神经网络特征提取 编码模块 联合损失函数 视觉 两阶段 热点检测 匈牙利匹配算法 解码器 编码特征 三元组 损失函数设计 掩模缺陷 光刻胶材料