一种基于神经网络的外延生长率计算方法及系统

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一种基于神经网络的外延生长率计算方法及系统
申请号:CN202510976309
申请日期:2025-07-16
公开号:CN120470422B
公开日期:2025-09-09
类型:发明专利
摘要
本发明属于半导体制造领域,提供了一种基于神经网络的外延生长率计算方法及系统,其中方法包括:将不同外延生长工艺下的反射率数据进行标注和预处理得到原始数据集,反射周期数映射模型根据原始数据集进行第一路权重调制和验证得到已训练的反射周期数映射模型,工艺反射‑折射模型对原始数据集进行聚类分析并配置第二路权重得到已训练的工艺反射‑折射模型,经过全连接层特征融合后得到预测模型,将实际外延生长工艺过程中的待测数据集再输入预测模型得到预测干涉周期数和预设折射率进而通过外延厚度计算外延生长率。预测模型充分考虑工艺参数变化对折射率的影响,提升了晶圆的外延生长率计算的准确性和效率。
技术关键词
外延生长工艺 反射率数据 双路神经网络 周期 存储模块 时序 聚类 K折交叉验证法 数据采集模块 计算方法 参数 检测光 视窗 LSTM模型 反射光 波长