一种氧化镁的研磨监测方法及系统

本发明公开了一种氧化镁的研磨监测方法及系统，具体涉及研磨监测技术领域，本发明首先从从具有目标厚度的参考基材表面，采集由光反射生成的参考光谱；在研磨过程中，通过多个光学传感器，多角度捕获氧化镁研磨基材表面反射光谱；然后根据K值、粉尘时空浓度分布计算各个光学传感器的画面粉尘影响系数；确定角度修正因子以及画面粉尘影响系数综合分配各个光学传感器获取的反射光谱权重系数；根据各个光学传感器获取的反射光谱权重系数将各个光学传感器获取的反射光谱融合输出；最后将实时光谱与历史光谱库匹配；对比各区域目标厚度，确定速率偏差；通过压力控制系统，动态调整不同区域的研磨压力；使所有区域的研磨终点时间趋近一致。