用于高真空炉的热处理工艺控制方法及系统

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用于高真空炉的热处理工艺控制方法及系统
申请号:CN202510982096
申请日期:2025-07-16
公开号:CN120591529A
公开日期:2025-09-05
类型:发明专利
摘要
本发明公开了用于高真空炉的热处理工艺控制方法及系统,涉及控制系统技术领域,基于炉内的历史温度数据将炉内划分为若干子区域,将初始温度分解为基准温度数据以及温度梯度数据,计算基础层热处理数据与目标温度之间的差异,获取温度残差数据,获取每个子区域当前温度与目标温度差异,利用距离算法计算每个子区域与加热物件之间的距离,结合温度差异与距离对所有子区域进行调控优先级排序,根据优先级排序结果选择子区域调控顺序,依据温度残差数据以及子区域之间的温度影响对每个子区域的当前温度进行调控。该控制方通过对炉内区域进行细致划分,能够实现每个子区域的精准温度控制,使得炉内温度分布更加均匀,从而提升了热处理质量。
技术关键词
高真空炉 残差数据 热处理工艺 历史温度数据 编码 基准 基础 加热 解码 温度传感器 控制系统 算法 模块 阶段 测量点 指数 坐标 表达式