复合衬底及其制备方法、半导体器件、芯片
# 热门搜索 #
大模型
人工智能
openai
融资
chatGPT
验证码登录
×
发送
登录即代表您已同意AITNT
用户协议
和
隐私政策
登录
登录成功后会自动刷新界面
AITNT公众号
AITNT APP
AITNT交流群
搜索
未登录
首页
AI中心
退出
首页
AI资讯
AI技术研报
AI监管政策
AI产品测评
AI商业项目
AI产品热榜
AI 源力市场
寻求报道
复合衬底及其制备方法、半导体器件、芯片
申请号:
CN202510986366
申请日期:
2025-07-17
公开号:
CN120603311A
公开日期:
2025-09-05
类型:
发明专利
摘要
本公开提供了一种复合衬底及其制备方法、半导体器件、芯片,涉及半导体芯片技术领域,旨在解决多片衬底键合在一起后,键合界面电阻较高,导致复合衬底的导通电阻较高的问题;所述复合衬底包括:依次堆叠设置的第一衬底、功能层和第二衬底;第一衬底和第二衬底通过功能层连接;其中,功能层的材料的电阻率小于或等于1×10‑4Ω·cm。
技术关键词
复合衬底
半导体器件
半导体芯片技术
锡掺杂氧化铟
氟掺杂氧化锡
铝掺杂氧化锌
氮化铝衬底
磷化铟衬底
氧化镓衬底
氮化镓衬底
金刚石衬底
砷化镓衬底
碳化硅衬底
热处理
界面
导电