复合衬底及其制备方法、半导体器件、芯片

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复合衬底及其制备方法、半导体器件、芯片
申请号:CN202510986366
申请日期:2025-07-17
公开号:CN120603311A
公开日期:2025-09-05
类型:发明专利
摘要
本公开提供了一种复合衬底及其制备方法、半导体器件、芯片,涉及半导体芯片技术领域,旨在解决多片衬底键合在一起后,键合界面电阻较高,导致复合衬底的导通电阻较高的问题;所述复合衬底包括:依次堆叠设置的第一衬底、功能层和第二衬底;第一衬底和第二衬底通过功能层连接;其中,功能层的材料的电阻率小于或等于1×10‑4Ω·cm。
技术关键词
复合衬底 半导体器件 半导体芯片技术 锡掺杂氧化铟 氟掺杂氧化锡 铝掺杂氧化锌 氮化铝衬底 磷化铟衬底 氧化镓衬底 氮化镓衬底 金刚石衬底 砷化镓衬底 碳化硅衬底 热处理 界面 导电