功率半导体器件、形成方法、封装方法以及封装结构
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功率半导体器件、形成方法、封装方法以及封装结构
申请号:
CN202510987705
申请日期:
2025-07-16
公开号:
CN120854273A
公开日期:
2025-10-28
类型:
发明专利
摘要
本申请涉及一种功率半导体器件、形成方法、封装方法以及封装结构,其中形成方法包括:提供第一基板,第一基板内具有多个导电结构,导电结构沿第一基板的厚度方向贯穿第一基板;提供功率芯片,将功率芯片与第一基板键合,功率芯片与导电结构耦接;在第一基板背离功率芯片的一侧表面形成隧道磁阻结构,隧道磁阻结构与导电结构耦接。本申请通过构建统一的第一基板平台,功率芯片与隧道磁阻结构在该第一基板上下两侧分层布设,结构固定,无须针对每种封装单独设计传感器布线与支撑结构,大幅提升设计通用性。
技术关键词
功率半导体器件
功率芯片
隧道磁阻
导电结构
基板
金属屏蔽网
惠斯通电桥结构
封装方法
电互连结构
复合金属膜层
屏蔽结构
封装结构
散热结构
散热层
集成温度传感器
壳体
冷却液