一种薄晶圆切割方法

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一种薄晶圆切割方法
申请号:CN202510988147
申请日期:2025-07-17
公开号:CN120885902A
公开日期:2025-11-04
类型:发明专利
摘要
本发明涉及芯片技术领域,具体地说是一种薄晶圆切割方法。包括如下步骤:S1,对晶圆进行正面浅切,切割刀选择具有V型边缘的超薄刀具,形成V型的切割槽;S2,对晶圆正面贴合正面保护膜;S3,对晶圆背面进行减薄;S4,在晶圆背面贴合透切膜,去除正面保护膜;S5,将晶圆正面向下放置于隐形切割机的软性平台上,对晶圆背面进行激光隐形切割,分离成若干芯片;S6,对晶圆进行扩片处理,扩大芯片与芯片之间的间距;S7,对透切膜进行紫外光照射;S8,取走芯片。同现有技术相比,在晶圆正面利用超薄V型边缘切割刀在切割道内进行浅切,通过V型预开槽引导隐形切割裂纹扩展,降低隐形切割中裂痕无序延展的风险,降低晶圆切割的工艺成本。
技术关键词
切割方法 激光隐形切割 保护膜 正面 芯片 切割刀 V型 切割机 紫外光 刀具 间距 平台 晶圆 裂纹 风险 速度