一种基于多粒度特征选择模型的WAT参数特征选择方法、系统、设备及介质

本发明涉及半导体制造技术领域，具体地说，涉及一种基于多粒度特征选择模型的WAT参数特征选择方法、系统、设备及介质；通过融合过滤式与封装式方法，结合Sketch‑Bloom快速筛选与AWOA‑SVM动态优化，解决了WAT参数维度高、关系复杂导致的效率与精度问题；显著提升了晶圆图绘制速度与良率预测准确性，适用于先进工艺节点的半导体制造优化。