一种槽内透镜及其制备方法和应用

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一种槽内透镜及其制备方法和应用
申请号:CN202511045051
申请日期:2025-07-28
公开号:CN120742461A
公开日期:2025-10-03
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种槽内透镜及其制备方法和应用,涉及透镜制备技术领域。本发明提供的四种槽内透镜的制备方法,都只需使用光刻胶做ICP刻蚀掩膜,无需额外增加其他材料(例如氧化铝,氮化硅、二氧化硅、金属等)做掩膜层,在光刻过程中制作出槽内胶透镜作为掩膜,只需进行一次ICP刻蚀,即可将槽内胶透镜形貌转移至基底材料内部,极大地简化槽内透镜的制备工艺过程,大幅提升槽内透镜的良率和均匀性,降低成本。本发明制备的槽内透镜对输入的红外光信号起到准直、聚焦作用,能有效提升探测器芯片的灵敏度,在半导体光通讯、激光雷达等探测器芯片制造中具有很好的应用前景。
技术关键词
透镜 电感耦合等离子 热熔 柱状 负性光刻胶 正性光刻胶 探测器 基材 刻蚀掩膜 台阶 涂覆 光通讯 激光雷达 芯片 二氧化硅 红外光 氮化硅