晶圆表面缺陷扫描排布方法及系统

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晶圆表面缺陷扫描排布方法及系统
申请号:CN202511045305
申请日期:2025-07-29
公开号:CN120637260B
公开日期:2025-10-21
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种晶圆表面缺陷扫描排布方法及系统,其中方法包括以下步骤:根据扫描机台在晶圆上的一次投影曝光范围计算其在第一方向上覆盖的芯片个数为Nx,在第二方向上所覆盖的芯片个数为Ny;判断芯片的尺寸大小是否在预设扫描阈值范围内,若是,则芯片无需合并扫描;若否,则根据预设扫描阈值范围计算在第一方向上需合并的最少芯片个数N1和第二方向上需合并的最少芯片个数N2,其中N1、N2均小于预设值,且N1能被Nx整除,N2能被Ny整除;根据N1、N2设置扫描机台的扫描参数,自动绘制晶圆缺陷扫描排布图以对晶圆表面进行缺陷扫描。本发明可自动绘制出晶圆缺陷扫描排布图,实现扫描缺陷最佳的感度以及最佳的缺陷检出能力。
技术关键词
扫描阈值 晶圆表面缺陷 排布方法 扫描机 芯片 缺陷扫描方法 扫描缺陷 排布系统 参数 尺寸 图像 模块 标记