高可靠性芯片及其制造工艺
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高可靠性芯片及其制造工艺
申请号:
CN202511048011
申请日期:
2025-07-29
公开号:
CN120897469A
公开日期:
2025-11-04
类型:
发明专利
摘要
本发明提供一种高可靠性芯片及其制造工艺,涉及半导体芯片技术领域。本发明提出了一种高可靠性芯片及其制造工艺,通过在光刻时采用特制光罩,使得在后续的蚀刻、切割后,形成下台面为多边形,上台面表面为形成圆形的芯片,能够兼顾电气性能优化和生产成本。
技术关键词
透光
保护膜
多晶硅
半导体芯片技术
光罩
衬底层
蚀刻
光刻图形
多边形
正三角形
连线
上台面
圆心
光刻胶
基底
直线