摘要
本申请公开了一种超表面元件的设计方法及投射装置,该设计方法包括:根据阵列光源及投射点阵确定超表面元件的准直相位和衍射相位;将准直相位与衍射相位叠加,获得超表面元件的复合相位,并将复合相位转换为超表面元件的结构尺寸;基于结构尺寸制备超表面元件,通过调整阵列光源与超表面元件的轴向间距以改变离焦量,测试不同离焦量条件下所述投射点阵的分布,确定使得投射点阵的分布符合预设要求的目标离焦量。利用本申请的超表面元件的设计方法,能够突破常规级次复制方法的能量调控限制,使投射点阵的各点能量能够按预设比例分布。