一种基于深度图的芯片量测方法、设备、介质及程序产品

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一种基于深度图的芯片量测方法、设备、介质及程序产品
申请号:CN202511056903
申请日期:2025-07-30
公开号:CN120953079A
公开日期:2025-11-14
类型:发明专利
摘要
本发明实施例公开了一种基于深度图的芯片量测方法、设备、介质及程序产品。该方法包括:获取待量测芯片的深度图和原始二维图像;根据深度图建立空间坐标系,并对深度图中的芯片基板平面进行拟合,得到芯片基板平面的平面拟合方程;根据平面拟合方程以及空间坐标系,确定将芯片基板平面变换至空间坐标系中水平面时的投影变换矩阵;获取芯片参数数据,并在原始二维图像中识别芯片特征点,根据芯片特征点以及芯片参数数据,确定二维平面的旋转校正矩阵;根据投影变换矩阵以及旋转校正矩阵,确定校正后的目标二维图像;根据目标二维图像进行芯片识别,得到芯片量测结果。通过先对芯片基板平面进行三维校正,再进行芯片量测,可提高量芯片测精准度。
技术关键词
投影变换矩阵 芯片基板 深度图 量测方法 建立空间坐标系 图像 校正 方程 特征点 识别芯片 旋转变换矩阵 像素 处理器 标定关系 可读存储介质 计算机