一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用

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一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用
申请号:CN202511068466
申请日期:2025-07-31
公开号:CN120669493A
公开日期:2025-09-19
类型:发明专利
摘要
本发明涉及半导体制备技术领域,提出了一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用。其中光刻胶剥离液包括如下组分:有机胺、有机溶剂和去离子水,所述有机胺包括1‑(咪唑并[1,2‑a]吡啶‑7‑基)乙胺和2‑(1‑三苯甲基‑1H‑咪唑‑4‑基)乙胺中的一种或两种组合物。本发明有机胺选择2‑(1‑三苯甲基‑1H‑咪唑‑4‑基)乙胺与1‑(咪唑并[1,2‑a]吡啶‑7‑基)乙胺,通过其双亲核位点的高效光刻胶分解能力,疏水和π‑π堆积协同作用以及空间位阻和化学表面配位作用,可以提高基板的洁净度,防止光刻胶以溶解态的形式吸附在基板上。
技术关键词
光刻胶剥离液 丙二醇甲醚醋酸酯 有机胺 剥离光刻胶 去离子水 乙胺 咪唑 三乙二醇单甲醚 乙基吡咯烷酮 基片 涂覆光刻胶 半导体芯片 吡啶 二甲基 基板 位点