自适应曝光控制的X射线强度动态调节方法及系统

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自适应曝光控制的X射线强度动态调节方法及系统
申请号:CN202511085190
申请日期:2025-08-04
公开号:CN120993997A
公开日期:2025-11-21
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种自适应曝光控制的X射线强度动态调节方法及系统,其方法包括:对货物进行扫描获取密度分布,基于密度分布生成反馈信号,根据反馈信号确定各级密度区域的最佳X射线发射参数;基于各级密度区域的最佳X射线发射参数与每个货物的密度参数生成控制信号;通过控制信号实时调整X射线设备的射线发射参数并对每个货物进行扫描,根据扫描结果绘制每个货物的高精度图像;对每个货物的高精度图像进行分析确定货物违禁性质。可以精准地基于不同密度的货物进行不同强度的X射线扫描,提高了实用性和稳定性,同时也避免了X射线设备处于高强度工作模式下的过早老化问题,降低了设备使用成本。
技术关键词
动态调节方法 X射线设备 密度分布模型 生成反馈信号 参数 生成控制信号 二维灰度图像 传感器阵列 强度 动态调节系统 生成发射信号 信号接收器 工作周期 阴极 阳极