高阈值平面光学元件设计方法、制备方法及平面光学元件

AITNT-国内领先的一站式人工智能新闻资讯网站
# 热门搜索 #
高阈值平面光学元件设计方法、制备方法及平面光学元件
申请号:CN202511126477
申请日期:2025-08-12
公开号:CN120821076A
公开日期:2025-10-21
类型:发明专利
摘要
本申请提供一种高阈值平面光学元件设计方法、制备方法及平面光学元件,涉及光学器件技术领域。设计方法包括:基于目标激光中的两个波长和目标偏振转换效率,结合优化算法,确定两组调控结构的厚度结构;根据两个波长和每个波长对应的相位调控需求,确定两组调控结构的空间参数;平面光学元件的设计结构包括两组调控结构的厚度结构和空间参数。制备方法包括:对基体材料进行预处理;通过激光加工技术,基于设计结构,对基体材料进行加工处理,得到平面光学元件。高阈值平面光学元件包括:基体材料内部加工设置有两组调控结构;第一组调控结构用于对目标激光中的第一波长进行整形处理;第二组调控结构用于对目标激光中的第二波长进行整形处理。
技术关键词
平面光学元件 调控结构 波长 双折射结构 激光 基体 光学器件技术 高损伤阈值 参数 启发式算法 调控功能 圆偏振光 光学材料 光学玻璃 级联 方位角 取向 数据