半导体器件和芯片

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半导体器件和芯片
申请号:CN202511135473
申请日期:2025-08-13
公开号:CN120825982A
公开日期:2025-10-21
类型:发明专利
摘要
本公开提供一种半导体器件和芯片,涉及半导体技术领域,用于提升半导体器件的栅极可靠性;该半导体器件包括衬底、沟道层、势垒层、帽层、栅极、源极、漏极和调制层;沟道层和势垒层沿远离衬底的方向层叠设于衬底上;帽层设于势垒层远离衬底的一侧;帽层中掺杂有第一受主;栅极设于帽层远离衬底的一侧;源极和漏极分别设于帽层沿第一方向的两侧,且分别与帽层之间具有间距;第一方向垂直于衬底的厚度方向;调制层至少设于栅极与帽层之间;调制层中掺杂有第一受主,且调制层中的第一受主的浓度低于帽层中第一受主的浓度。上述半导体器件应用于芯片中。
技术关键词
半导体器件 衬底 势垒层 栅极 芯片 氮化镓 层叠 间距